主營產品
EXPEC 7350 ICP-MS/MS顛覆傳統,采用全新的先進工藝設計和突破性的技術,將國產ICP-MS技術平臺推向巔峰,獨特的MS/MS模式,大大提高了消除干擾的能力,輕松化解分析過程中的疑難雜癥,是痕量元素分析的終極解決方案。適合于復雜基質下的超痕量元素分析以及科研尖端領域分析,如半導體高純材料及試劑,具有超高的抗干擾能力,極低的檢出限。
EXPEC 7350 ICP-MS/MS顛覆傳統,采用全新的先進工藝設計和突破性的技術,將國產ICP-MS技術平臺推向巔峰,獨特的MS/MS模式,大大提高了消除干擾的能力,輕松化解分析過程中的疑難雜癥,是痕量元素分析的終極解決方案。適合于復雜基質下的超痕量元素分析以及科研尖端領域分析,如半導體高純材料及試劑,具有超高的抗干擾能力,極低的檢出限。
產品特點
全球首創垂直炬管
首次在ICP-MS中引入垂直炬管設計,大幅度減少炬管中鹽分的累積,延長炬管使用壽命,解決高鹽復雜基質樣品的分析難題,同時大幅度減少氬氣消耗,熱量和廢氣自然向上進入排氣系統,對清潔的需求更少,停機時間更短。
新一代的全固態離子源
獨特的專利式雙RF電源,具有最快的阻抗匹配方式,使得響應速度更快,抗干擾能力更強,無任何運動部件,提供穩定性更好的ICP炬焰,體積小的同時提高分析的穩定性,可直接進樣分析100%乙醇等揮發性極強的有機物。
冷等離子體模式
獨特的自激式全固體射頻源,提供低至500w的冷焰模式,減少Ar基離子的電離,改善
39K+、40Ca+、56Fe+等分析物離子的信噪比,元素檢測下限被大大拓展。
三重四極桿設計
延長四極桿的“有效長度”降低邊沿場的干擾,提高離子入射效率,輕松獲得百萬級的檢測靈敏度,增加離子傳輸效率,降低Q1、Q2四極桿的污染,四極桿無需清洗和維護。
采用業內最長的四極桿,使得離子震動次數增多,分辨率增高,質量分辨小于0.3amu;超寬的帶通功能,可將儀器靈敏度提高2倍以上。
輕松駕馭的Element V工作站
強大的高通量數據批處理分析軟件,支持數據離線處理,提高數據處理效率
擁有豐富開放的對外接口,支持各種設備聯用需求
可視化運行監控,上機自檢,儀器健康指數,一目了然;一鍵自動調諧和質量校準,降低用戶使用難度
靈活的分析模式
充分發揮了碰撞反應池的潛能,五路碰撞反應氣結合MS/MS模式,即使在分析基質極為復雜的樣品時,也能在保證靈敏度,徹底的消除干擾,獲得精確的分析結果